山(shan)東(dong)濰(wei)坊永(yong)興(xing)環(huan)保(bao)設備有限(xian)公司擁有壹支(zhi)國(guo)內(nei)二氧化氯(lv)行業zui的研(yan)發團隊(dui)，能(neng)依(yi)據(ju)市場和(he)應(ying)用的需(xu)求(qiu)，不(bu)斷開發出更(geng)先進(jin)、適用的設(she)備，工藝技術不(bu)斷得(de)到提升(sheng)。吉(ji)林(lin)二氧化氯(lv)發生(sheng)器 制造(zao)廠(chang)家
山(shan)東(dong)濰(wei)坊永(yong)興(xing)環(huan)保(bao)設備有限(xian)公司擁有壹支(zhi)國(guo)內(nei)二氧化氯(lv)行業zui的研(yan)發團隊(dui)，能(neng)依(yi)據(ju)市場和(he)應(ying)用的需(xu)求(qiu)，不(bu)斷開發出更(geng)先進(jin)、適用的設(she)備，工藝技術不(bu)斷得(de)到提升(sheng)。吉(ji)林(lin)二氧化氯(lv)發生(sheng)器 制造(zao)廠(chang)家
壹(yi)、二氧化氯(lv)發生(sheng)器的(de)定義(yi)
二氧化氯(lv)發生(sheng)器是(shi)指(zhi)以氯酸(suan)鈉和(he)鹽酸(suan)為(wei)原(yuan)料(liao)經化學(xue)反(fan)應(ying)生(sheng)成(cheng)二氧化氯(lv)和(he)CL2混(hun)合(he)溶液(ye)的(de)發生(sheng)裝置(zhi)。
二、反應(ying)原(yuan)理(li)2NaClO3 + 4HCl == 2ClO2 + Cl2 + 2NaCl + 2H2O
三、原(yuan)料(liao)的(de)要(yao)求(qiu)
氯(lv)酸(suan)鈉應(ying)符(fu)合(he)標(biao)準(zhun)《GB/T1618-2008工(gong)業氯酸(suan)鈉》壹(yi)等(deng)品的質量(liang)要(yao)求(qiu)。
鹽酸(suan)應(ying)符(fu)合(he)《GB320-2006工(gong)業合(he)成(cheng)鹽酸(suan)》壹(yi)級(ji)品的要求(qiu)。
四(si)、設備基本(ben)配(pei)置(zhi)
序號 | 設(she)備名(ming)稱 | 用 途 | 備 註 |
1 | 二氧化氯(lv)發生(sheng)器主(zhu)機 | 氯(lv)酸(suan)鈉和(he)鹽酸(suan)在主機反(fan)應(ying)釜內(nei)反應(ying)，產(chan)生(sheng)出二氧化氯(lv)消毒(du)液(ye) | 多(duo)級反應(ying)技(ji)術(shu) |
2 | 控制系(xi)統(tong) | 用於對(dui)設(she)備的系(xi)統(tong)控制 | 有(you)PLC控制、單(dan)片(pian)機、普通控制等(deng)多(duo)種(zhong)控制模(mo)式(shi) |
3 | 鹽酸(suan)計(ji)量(liang)泵(beng) | 用於從鹽酸(suan)儲罐向(xiang)主(zhu)機反(fan)應(ying)釜定(ding)量(liang)輸送鹽酸(suan) | 意大(da)利(li)道茨 |
4 | 氯(lv)酸(suan)鈉計(ji)量(liang)泵(beng) | 用於從氯酸(suan)鈉儲罐向(xiang)主(zhu)機反(fan)應(ying)釜定(ding)量(liang)輸送氯(lv)酸(suan)鈉溶液(ye) | 意大(da)利(li)道茨 |
5 | 水(shui)射器(qi)、單(dan)向(xiang)閥(fa) | 用於抽吸反(fan)應(ying)釜產(chan)生(sheng)的消毒(du)液(ye)至消毒(du)池(chi) | 有(you)機玻(bo)璃(li) |
6 | 鹽酸(suan)儲罐 | 用於儲存(cun)鹽酸(suan) | 材(cai)質PE、UPVC |
7 | 氯(lv)酸(suan)鈉儲罐 | 用於儲存(cun)氯酸(suan)鈉溶液(ye) | 材(cai)質PE、UPVC |
8 | 卸酸(suan)泵(beng) | 用於向(xiang)鹽酸(suan)儲罐輸送鹽酸(suan) |
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9 | 化(hua)料(liao)器(qi) | 用於自(zi)動(dong)溶解固體(ti)氯酸(suan)鈉 |
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10 | 電(dian)接點壓力(li)表(biao) | 用於探測動(dong)力(li)水(shui)水壓 | 動(dong)力(li)水(shui)水壓低於設(she)定(ding)值時(shi)系統(tong)對(dui)自(zi)動(dong)停(ting)機 |
11 | 余(yu)氯(lv)在線(xian)檢測(ce)儀 | 用於探測消毒(du)後(hou)水內(nei)剩(sheng)余(yu)的(de)消毒(du)液(ye)的(de)濃(nong)度(du) | 控制系(xi)統(tong)可(ke)根(gen)據(ju)處理(li)後(hou)水(shui)中余(yu)氯(lv)的(de)變(bian)化(hua)來自(zi)動(dong)改變(bian)消毒(du)液(ye)的(de)發生(sheng)量(liang) |
12 | 電(dian)磁(ci)流(liu)量(liang)計(ji) | 用於探測處理(li)水(shui)的(de)流量(liang) | 控制系(xi)統(tong)可(ke)根(gen)據(ju)處理(li)水(shui)量(liang)的(de)變(bian)化(hua)來自(zi)動(dong)改變(bian)消毒(du)液(ye)的(de)發生(sheng)量(liang) |
13 | 加(jia)氯(lv)間內(nei)管(guan)路管(guan)件 | 用於設(she)備間的(de)管(guan)路連(lian)接(jie) |
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五(wu)、永(yong)興(xing)牌二氧化氯(lv)發生(sheng)器的性能(neng)特(te)點(dian)
1、真(zhen)空攪(jiao)拌(ban)技術永(yong)興(xing)牌二氧化氯(lv)發生(sheng)器設(she)備內部配(pei)備有磁(ci)力(li)攪(jiao)拌(ban)器，是(shi)目前(qian)國(guo)內(nei)壹(yi)家(jia)采(cai)用先進(jin)的(de)真空攪(jiao)拌(ban)技術來(lai)生(sheng)產(chan)二氧化氯(lv)消毒(du)液(ye)的(de)設備。設備安全(quan)穩(wen)定，反(fan)應(ying)速率(lv)快(kuai)，二氧化氯(lv)收(shou)率(lv)高(gao)，運(yun)行費(fei)用低。
2、全(quan)封(feng)閉(bi)設計(ji)無(wu)泄(xie)漏(lou)由於(yu)永(yong)興(xing)牌二氧化氯(lv)發生(sheng)器采(cai)用了全(quan)封(feng)閉(bi)的設(she)計(ji)，當設(she)備停(ting)止運(yun)行的(de)時候(hou)，設備內部的二氧化氯(lv)就不(bu)會(hui)從設備內部溢出，不(bu)會(hui)造成(cheng)泄(xie)漏(lou)汙染(ran)。
3、動(dong)力(li)水(shui)消耗(hao)量(liang)低射流(liu)泵(beng)僅抽吸二氧化氯(lv)發生(sheng)器主(zhu)機產(chan)生(sheng)的二氧化氯(lv)和(he)CL2，相較需(xu)要抽吸二氧化氯(lv)、CL2和(he)大(da)量(liang)空(kong)氣(qi)的(de)負(fu)壓曝(pu)氣(qi)工藝來講(jiang)，動(dong)力(li)水(shui)的消耗(hao)量(liang)低。
4、加(jia)熱(re)能(neng)耗(hao)小(xiao)僅(jin)加(jia)熱(re)反(fan)應(ying)液(ye)，相較需(xu)要同時加(jia)熱(re)進(jin)入反應(ying)釜內(nei)大量(liang)空(kong)氣(qi)的(de)負(fu)壓曝(pu)氣(qi)工藝來講(jiang)，加(jia)熱(re)功(gong)耗小(xiao)。
5、自(zi)動(dong)化程度(du)高具(ju)有自(zi)動(dong)控溫、余(yu)氯(lv)顯(xian)示(shi)、流(liu)量(liang)反(fan)饋(kui)、液(ye)位(wei)保護、欠壓報警(jing)等(deng)自(zi)動(dong)控制功(gong)能(neng)。可(ke)對(dui)接(jie)多(duo)種(zhong)通訊協議(yi)，可(ke)實(shi)現(xian)遠(yuan)程精確(que)控制。
6、產(chan)品豐(feng)富(fu)有(you)YX系(xi)列全(quan)自(zi)動(dong)二氧化氯(lv)發生(sheng)器、YX系(xi)列半自(zi)動(dong)二氧化氯(lv)發生(sheng)器和(he)YX系(xi)列二氧化氯(lv)發生(sheng)器等(deng)三個系列(lie)產(chan)品。
7、化(hua)的的設計(ji)團隊(dui)可(ke)根(gen)據(ju)用戶(hu)的各種(zhong)要求(qiu)來設(she)計(ji)用戶(hu)需(xu)要的(de)系統(tong)集(ji)成(cheng)。
壹(yi)、二氧化氯(lv)發生(sheng)器的(de)定義(yi)
二氧化氯(lv)發生(sheng)器是(shi)指(zhi)以氯酸(suan)鈉和(he)鹽酸(suan)為(wei)原(yuan)料(liao)經化學(xue)反(fan)應(ying)生(sheng)成(cheng)二氧化氯(lv)和(he)CL2混(hun)合(he)溶液(ye)的(de)發生(sheng)裝置(zhi)。
二、反應(ying)原(yuan)理(li)2NaClO3 + 4HCl == 2ClO2 + Cl2 + 2NaCl + 2H2O
三、原(yuan)料(liao)的(de)要(yao)求(qiu)
氯(lv)酸(suan)鈉應(ying)符(fu)合(he)標(biao)準(zhun)《GB/T1618-2008工(gong)業氯酸(suan)鈉》壹(yi)等(deng)品的質量(liang)要(yao)求(qiu)。
鹽酸(suan)應(ying)符(fu)合(he)《GB320-2006工(gong)業合(he)成(cheng)鹽酸(suan)》壹(yi)級(ji)品的要求(qiu)。
四(si)、設備基本(ben)配(pei)置(zhi)
序號 | 設(she)備名(ming)稱 | 用 途 | 備 註 |
1 | 二氧化氯(lv)發生(sheng)器主(zhu)機 | 氯(lv)酸(suan)鈉和(he)鹽酸(suan)在主機反(fan)應(ying)釜內(nei)反應(ying)，產(chan)生(sheng)出二氧化氯(lv)消毒(du)液(ye) | 多(duo)級反應(ying)技(ji)術(shu) |
2 | 控制系(xi)統(tong) | 用於對(dui)設(she)備的系(xi)統(tong)控制 | 有(you)PLC控制、單(dan)片(pian)機、普通控制等(deng)多(duo)種(zhong)控制模(mo)式(shi) |
3 | 鹽酸(suan)計(ji)量(liang)泵(beng) | 用於從鹽酸(suan)儲罐向(xiang)主(zhu)機反(fan)應(ying)釜定(ding)量(liang)輸送鹽酸(suan) | 意大(da)利(li)道茨 |
4 | 氯(lv)酸(suan)鈉計(ji)量(liang)泵(beng) | 用於從氯酸(suan)鈉儲罐向(xiang)主(zhu)機反(fan)應(ying)釜定(ding)量(liang)輸送氯(lv)酸(suan)鈉溶液(ye) | 意大(da)利(li)道茨 |
5 | 水(shui)射器(qi)、單(dan)向(xiang)閥(fa) | 用於抽吸反(fan)應(ying)釜產(chan)生(sheng)的消毒(du)液(ye)至消毒(du)池(chi) | 有(you)機玻(bo)璃(li) |
6 | 鹽酸(suan)儲罐 | 用於儲存(cun)鹽酸(suan) | 材(cai)質PE、UPVC |
7 | 氯(lv)酸(suan)鈉儲罐 | 用於儲存(cun)氯酸(suan)鈉溶液(ye) | 材(cai)質PE、UPVC |
8 | 卸酸(suan)泵(beng) | 用於向(xiang)鹽酸(suan)儲罐輸送鹽酸(suan) |
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9 | 化(hua)料(liao)器(qi) | 用於自(zi)動(dong)溶解固體(ti)氯酸(suan)鈉 |
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10 | 電(dian)接點壓力(li)表(biao) | 用於探測動(dong)力(li)水(shui)水壓 | 動(dong)力(li)水(shui)水壓低於設(she)定(ding)值時(shi)系統(tong)對(dui)自(zi)動(dong)停(ting)機 |
11 | 余(yu)氯(lv)在線(xian)檢測(ce)儀 | 用於探測消毒(du)後(hou)水內(nei)剩(sheng)余(yu)的(de)消毒(du)液(ye)的(de)濃(nong)度(du) | 控制系(xi)統(tong)可(ke)根(gen)據(ju)處理(li)後(hou)水(shui)中余(yu)氯(lv)的(de)變(bian)化(hua)來自(zi)動(dong)改變(bian)消毒(du)液(ye)的(de)發生(sheng)量(liang) |
12 | 電(dian)磁(ci)流(liu)量(liang)計(ji) | 用於探測處理(li)水(shui)的(de)流量(liang) | 控制系(xi)統(tong)可(ke)根(gen)據(ju)處理(li)水(shui)量(liang)的(de)變(bian)化(hua)來自(zi)動(dong)改變(bian)消毒(du)液(ye)的(de)發生(sheng)量(liang) |
13 | 加(jia)氯(lv)間內(nei)管(guan)路管(guan)件 | 用於設(she)備間的(de)管(guan)路連(lian)接(jie) |
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五(wu)、永(yong)興(xing)牌二氧化氯(lv)發生(sheng)器的性能(neng)特(te)點(dian)
1、真(zhen)空攪(jiao)拌(ban)技術永(yong)興(xing)牌二氧化氯(lv)發生(sheng)器設(she)備內部配(pei)備有磁(ci)力(li)攪(jiao)拌(ban)器，是(shi)目前(qian)國(guo)內(nei)壹(yi)家(jia)采(cai)用先進(jin)的(de)真空攪(jiao)拌(ban)技術來(lai)生(sheng)產(chan)二氧化氯(lv)消毒(du)液(ye)的(de)設備。設備安全(quan)穩(wen)定，反(fan)應(ying)速率(lv)快(kuai)，二氧化氯(lv)收(shou)率(lv)高(gao)，運(yun)行費(fei)用低。
2、全(quan)封(feng)閉(bi)設計(ji)無(wu)泄(xie)漏(lou)由於(yu)永(yong)興(xing)牌二氧化氯(lv)發生(sheng)器采(cai)用了全(quan)封(feng)閉(bi)的設(she)計(ji)，當設(she)備停(ting)止運(yun)行的(de)時候(hou)，設備內部的二氧化氯(lv)就不(bu)會(hui)從設備內部溢出，不(bu)會(hui)造成(cheng)泄(xie)漏(lou)汙染(ran)。
3、動(dong)力(li)水(shui)消耗(hao)量(liang)低射流(liu)泵(beng)僅抽吸二氧化氯(lv)發生(sheng)器主(zhu)機產(chan)生(sheng)的二氧化氯(lv)和(he)CL2，相較需(xu)要抽吸二氧化氯(lv)、CL2和(he)大(da)量(liang)空(kong)氣(qi)的(de)負(fu)壓曝(pu)氣(qi)工藝來講(jiang)，動(dong)力(li)水(shui)的消耗(hao)量(liang)低。
4、加(jia)熱(re)能(neng)耗(hao)小(xiao)僅(jin)加(jia)熱(re)反(fan)應(ying)液(ye)，相較需(xu)要同時加(jia)熱(re)進(jin)入反應(ying)釜內(nei)大量(liang)空(kong)氣(qi)的(de)負(fu)壓曝(pu)氣(qi)工藝來講(jiang)，加(jia)熱(re)功(gong)耗小(xiao)。
5、自(zi)動(dong)化程度(du)高具(ju)有自(zi)動(dong)控溫、余(yu)氯(lv)顯(xian)示(shi)、流(liu)量(liang)反(fan)饋(kui)、液(ye)位(wei)保護、欠壓報警(jing)等(deng)自(zi)動(dong)控制功(gong)能(neng)。可(ke)對(dui)接(jie)多(duo)種(zhong)通訊協議(yi)，可(ke)實(shi)現(xian)遠(yuan)程精確(que)控制。
6、產(chan)品豐(feng)富(fu)有(you)YX系(xi)列全(quan)自(zi)動(dong)二氧化氯(lv)發生(sheng)器、YX系(xi)列半自(zi)動(dong)二氧化氯(lv)發生(sheng)器和(he)YX系(xi)列二氧化氯(lv)發生(sheng)器等(deng)三個系列(lie)產(chan)品。
7、化(hua)的的設計(ji)團隊(dui)可(ke)根(gen)據(ju)用戶(hu)的各種(zhong)要求(qiu)來設(she)計(ji)用戶(hu)需(xu)要的(de)系統(tong)集(ji)成(cheng)。
