二(er)氧化(hua)氯發(fa)生器生產廠(chang)家

二(er)氧化(hua)氯發(fa)生器生產廠(chang)家   壹、永興(xing)二(er)氧化(hua)氯發(fa)生器總(zong)體結(jie)構(gou)及(ji)工(gong)作原理

   總(zong)體(ti)結(jie)構(gou)發(fa)生器由(you)供料系統、反(fan)應系(xi)統、控(kong)制系統和(he)安全(quan)系統構(gou)成發(fa)生器外(wai)殼為PVC材(cai)料。

   工(gong)作原理由(you)計(ji)量泵將(jiang)NaClO3水溶(rong)液與HCL溶(rong)液輸(shu)入到反應器中,在壹定(ding)溫度(du)和負(fu)壓下(xia)進(jin)行充分(fen)反(fan)應,產(chan)出以(yi)CLO2為主、CL2為輔的消毒(du)氣體(ti),經(jing)水射(she)器吸收(shou)與水充(chong)分(fen)混(hun)合後形成消(xiao)毒(du)液後,通入(ru)被(bei)消毒(du)水中。

二(er)、 永興(xing)二(er)氧化(hua)氯發(fa)生器主(zhu)要部件(jian)功(gong)能及(ji)工(gong)作原理

   (1) 水射(she)器水射(she)器是(shi)根據射(she)流原理而(er)設計(ji)的(de)壹(yi)種(zhong)抽(chou)氣元件,當動(dong)力(li)水經(jing)過(guo)水射(she)器時,其(qi)內(nei)部產生負(fu)壓,外部(bu)氣體(ti)在壓差作用(yong)下(xia)被(bei)子(zi)吸(xi)入(ru)水射(she)器,從而(er)實現(xian)吸(xi)氣。被(bei)吸入(ru)的CLO2氣體(ti)在些與混(hun)合,形成消(xiao)毒(du)液,另外(wai),水射(she)器還用(yong)於(yu)原料罐(guan)吸收(shou)。

   (2) 計量(liang)泵輸(shu)送原料及(ji)調節(jie)流量。

   (3) 反映器曝氣口(kou)〔進(jin)氣口(kou)〕設(she)備(bei)運行時的(de)空氣通(tong)道(dao),安(an)裝時,可(ke)連(lian)接管(guan)道並通到(dao)室(shi)外(wai),並保持(chi)與(yu)大(da)氣相(xiang)通。

   (4) 電(dian)接(jie)點(dian)壓力表(biao)電(dian)接(jie)點(dian)壓力表(biao)是(shi)保護設(she)備安全運(yun)行的裝(zhuang)置(zhi)之壹,其工(gong)作原理是(shi)當水射(she)器前(qian)端水壓低於(yu)設定(ding)值時(shi),該表(biao)控制計量(liang)泵停(ting)止(zhi)進料。

   (5) 原料液位(wei)傳感器(qi)原料液位(wei)傳感器(qi)也(ye)是(shi)保護設(she)備安全運(yun)行的裝(zhuang)置(zhi)之壹,它安裝(zhuang)於(yu)兩(liang)個原料罐(guan)底部(bu),當任(ren)何(he)壹種(zhong)原料用(yong)完(wan)時,計(ji)量(liang)泵將(jiang)停(ting)止(zhi)進料。

   (6) 溫度(du)控制器溫(wen)度控(kong)制器是(shi)系統加(jia)熱控(kong)制機構(gou),它保(bao)證(zheng)了NaClO3和hcl的(de)*化(hua)學(xue)反(fan)應(ying)溫(wen)度。

   (7) 控(kong)制器控(kong)制器是(shi)二(er)氧化(hua)氯發(fa)生器的(de)控制核(he)心,它(ta)完(wan)成了(le)系(xi)統的(de)整個(ge)自(zi)動控(kong)制。

   三(san)、永(yong)興二(er)氧化(hua)氯發(fa)生器 設(she)備運行(xing)條(tiao)件

   1. 電(dian)源(yuan)AC220V 50HZ

   2. 加(jia)藥方式為連(lian)續(xu)或(huo)間(jian)斷加(jia)藥,根(gen)據季節(jie)和水質(zhi)不(bu)同(tong),加(jia)藥時(shi)間(jian)、次數不(bu)等(deng)。

   3. 加(jia)藥動(dong)力水為工(gong)業(ye)水或(huo)自(zi)來(lai)水。

   4. 使用(yong)的(de)化(hua)學(xue)藥(yao)品質量

   HCL應符(fu)合GB320-93《工(gong)業(ye)用(yong)合成HCL》中壹級(ji)品標(biao)準,濃(nong)度為30%的液體。

  NaCLO3工(gong)業(ye) NaCLO3純(chun)度99%的(de)固體(ti)或(huo)濃(nong)度為30%的液體。

   四(si)、永興(xing)二(er)氧化(hua)氯發(fa)生器 設(she)備制造特(te)點(dian)

   1. 二(er)氧化(hua)氯發(fa)生器是(shi)自動控(kong)制運行(xing)的真(zhen)空投加(jia)系統,操(cao)作安(an)全(quan)可(ke)靠(kao)。

   2. 發(fa)生系統 NaCLO3轉(zhuan)換率在85%以(yi)上。

   3. 控(kong)制系統采(cai)用(yong)微(wei)電(dian)腦(nao)控制,可(ke)實(shi)現(xian)自動(dong)恒(heng)溫(wen)控(kong)制,缺料、欠(qian)壓、保護(hu)功能(neng)。

   4. 設(she)備(bei)布(bu)置(zhi)工(gong)藝(yi)合理,管路、管件、閥門(men)等(deng)配(pei)件布(bu)置(zhi)美觀(guan)大(da)方,單元為所(suo)有(you)部(bu)件(jian)在本公(gong)司(si)裝配(pei)固定(ding)好,確保在運輸(shu)過程中不(bu)遺失(shi)、損壞。

   5. 框(kuang)架(jia)內所(suo)有(you)結(jie)構(gou)、材(cai)質,都能(neng)滿(man)足(zu)當地(di)環(huan)境的(de)防(fang)腐要求(qiu),並在此基礎(chu)上選用(yong)產(chan)品。二(er)氧化(hua)氯發(fa)生器生產廠(chang)家。

   五、永興二(er)氧化(hua)氯發(fa)生器 設(she)備安裝(zhuang)條(tiao)件

   1. 設備應安裝在室(shi)內(nei),工(gong)作環(huan)境溫(wen)度(du)要15℃以(yi)上。

   2. CLO2具(ju)有(you)強(qiang)腐蝕(shi)性(xing),因(yin)此,在設備安(an)裝時(shi)應(ying)避(bi)免(mian)與(yu)其(qi)它(ta)設(she)備置(zhi)於(yu)同(tong)壹(yi)房(fang)間(jian)。

   3. 設備間(jian)應鋪設水泥(ni)地(di)面,並有(you)沖(chong)洗水源(yuan)和(he)排水下(xia)水道(dao)。

   4. 應(ying)在消毒間(jian)內安狀(zhuang)換(huan)氣扇(shan),保(bao)持(chi)通風(feng)良好。

   5. 設(she)備(bei)間(jian)應有(you)壓力水源(yuan),壓力為0.2～0.4MPa。

   6. 設備間(jian)應有(you)必(bi)要的照(zhao)明設(she)施(shi)及(ji)220V,5A-10A單相(xiang)三(san)孔電(dian)源(yuan)手(shou)插(cha)座壹個。